光刻机|光刻机成为了摆设！国内半导体巨头突然宣布，任正非：华为有救了_芯片|华为|半导体

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华为的断供让国人将目光再次聚焦到了半导体以及芯片制造领域，而芯片制造之所以能够得到广泛关注，一是因为在半导体领域芯片的不可替代性，第二就是我国在芯片制造技术领域之内，的确存在着很大的落后局面。而目前解决芯片制造技术的主要难题就在于光刻机的技术，而荷兰阿斯麦的光刻机说是属于荷兰的，其实很多零部件来自世界各地，包括美国、日本以及欧盟，显然，想要凭借一己之力制造高端光刻机是不现实的。

高端芯片的制造离不开光刻机，我国目前已经掌握了90nm光刻机的技术， 28nm的光刻机也可以独立制造，但是28nm的光刻机在未来两年之内才可以下线。从目前我们所掌握的技术来看，我们可以制造28nm乃至14nm的芯片，但是更加高端的7nm以及5nm芯片，则必须依靠荷兰阿斯麦EUV高端光刻机。

那么有没有一种办法可以跨越EUV光刻机生产高端芯片呢？最近，中芯国际 FinFET N+1 先进工艺关键突破：国产版7nm 制程不需要 EUV 光刻机。什么意思呢？

意思就是我们可以通过FinFET N+1的工艺制造芯片，完美绕开了国外的光刻机封锁技术。并且据有关数据得知，用中芯国际N+1工艺制造的芯片和用EUV光刻机制造的14nm芯片相比，性能提升20% ，功耗降低57% ，而7nm市场基准性能提升应该是35% 。
而这也就意味着，就算是不用EUV光刻机，只用普通的光刻机，再搭配上FinFET N+1工艺就可以制造出等同于台积电的7nm芯片。
最重要的是，此项技术完全属于国产自研，不需要担心卡脖子的问题。这是在华为被断供之后中国芯片制造迎来的巨大发展。

而一旦能够实现商用，就意味着华为芯片即使不通过台积电代工生产，也可以制造出同样类型的芯片。同时标志着，华为因为缺芯问题而被无限放大的问题有了较好的解决办法。

【光刻机|光刻机成为了摆设！国内半导体巨头突然宣布，任正非：华为有救了】正如比亚迪老总王传福所言，芯片是人造的，不是神造的，只要我们秉承可言的初心，就一定能够有所突破。当年在一穷二白的情况下能够搞出原子弹，现在我们依旧能够搞出芯片。