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摘要
光学发射光谱(OES)已被证明是一种有价值的工具在开发和生产最先进的半导体器件 。 应用于等离子体蚀刻所需的各种材料重点讨论了集成电路的制造 。 关于刻蚀端点分析 ， OES技术在监控中的应用 。
介绍
把复杂的图案转移到表面上的过程一种硅片 ， 以生产集成电路(IC)。 这对化学家和工程师都是一个巨大的挑战 。 它要求形成精确的掩模 ， 以及高度控制的蚀刻技术 。 光发射是这两个过程步骤的固有部分; 作为一个 曝光源用于光刻的前一种 ， 并作为副产物射频(RF)激励在后者 。 本文将讨论通过光学发射光谱(OES)表征这种发射 ， 使用这种技术来监视和控制某些方面的半导体制造过程 。
本文还讲述了监控等离子体条件 ， 腐蚀端点检测 ， 光电现象等问题 。
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【光学发射光谱的应用研究报告】
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