华为|华为终于等到了！中国7nm工艺“破冰”：完全绕开EUV光刻机_光刻机|芯片

文章图片

文章图片

文章图片

从2018年的中兴事件，到如今的华为芯片危机，美国针对中国半导体产业打压从未停止。多个制裁举措的背后，中国芯发展的“集结号”也正式吹响。

今年5月以来，美国商务部针对华为，修改、升级半导体相关出口规则。 9月15日芯片禁令彻底实施，导致华为在一夜之间“无芯可用” 。余承东在百人会2020年峰会上直言：受限于中国半导体产业的技术水平，麒麟高端系列芯片将成为绝版。如今，华为芯片供应方案仍未有眉目，在未来一段时间里，华为多项业务只能依靠“储备芯片”来继续支撑下去。

今年以来，针对半导体产业的发展，我国下发多项政策。先是将集成电路列为一级学科，后针对半导体企业进行税费减免等扶持政策。值得一提的是，中国半导体产业并没有令人失望。根据国内媒体最新消息，由我国完全自主研发的7nm制程工艺，已经测试通过。据悉，此次测试是由芯动科技进行，被测试的供应为FinFET N+1 。业内人士指出：该工艺较台积电的14nm相比，其性能提升20% ，功耗降低57% ，与目前的7nm供应规格完全相符。

【华为|华为终于等到了！中国7nm工艺“破冰”：完全绕开EUV光刻机】换言之，中国所自主的7nm芯片，已经正式流片和测试成功！根据目前的进度来看，今年年底或明年年初，该工艺将正式实现量产。值得一提的是，该工艺是完全绕开ASML所产的EUV光刻机来实现的！换言之， ASML所生产的尖端芯片制造设备EUV光刻机，虽然占据着全球超过90%的市场垄断地位，但是在中国， ASML已经无法施展其行业地位！FinFET N+1的测试成功，正式打破了ASML的垄断，以及美国设置的技术壁垒！