应用|谢建友:先进封测对设备和材料的需求与国产化现状

集微网消息 , 2021年5月19日下午 , 爱集微先进封测论坛在上海张江正式举办 。 合道资产半导体投资合伙人(前通富微电首席科学家)谢建友针对国内产业链相对薄弱的环节——设备与材料进行了深入的分析 。
谢建友首先指出 , 目前国内Stepper光刻机基本可以满足当前量产封装需求 , 性价比高 , 客户需求响应度快;Mask Aligner光刻机目前主要应用于小尺寸晶圆和低精度应用 , 4/6英寸可以满足量产要求 , 但精度、稳定性需要继续提高 。 另外 , 8英光刻寸设备国内自主研发不足 , 未来亟需填补国内市场空白 。

应用|谢建友:先进封测对设备和材料的需求与国产化现状
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另外 , bumping电镀和TSV深孔电镀国内已经在开发 , 并接近量产;常规RDL电镀国内已经大量出货 , 基本可以满足量产需求 。 至于AOI自动光学检测设备 , 国内已有部分产品线量产经验 , 同时在2D检验方面基本能够满足行业要求 。
除此之外 , 国内干法去胶机、干法蚀刻机和薄膜沉积设备基本成熟 , 已经具备量产应用 , 而研磨设备国内目前尚处于起步阶段 , 未来有望实现国产替代 。
在材料方面 , 国内光刻材料(过程材料)部分产品开始小量试产 , 分辨率接近进口产品 , 但目前产能不大;光刻材料(结构材料)目前尚无国产替代 , 亟需开发包括各种PI , 绝缘层聚合物材料等 。 此外 , 一些简单应用的蓝膜、UV膜、聚酰亚胺膜等膜类材料、电镀材料、高纯靶材、高纯电子化学品等也已实现成熟量产或部分量产 。
【应用|谢建友:先进封测对设备和材料的需求与国产化现状】发展至今 , 国内半导体产业在设备、核心部件以及关键材料方面仍然落后于世界领先水平 。 但谢建友认为 , 在“国产替代”浪潮下 , 设备与材料供应商针对市场需求进行积极研发 , 将与国内领先的封测企业一同成长 。 未来生产步入量产阶段 , 有望通过持续优化研发提升竞争力 。
设备与材料以及封测行业共同努力 , 有望通过单点突破实现国产替代 。 “国产替代”浪潮将持续推动产业向前发展 , 助力国内半导体企业发展成为世界级供应商 。

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